真空電鍍是一種物理沉積現象。即在超低壓容器中，利用電場的遷移作用對被鍍件塗覆金屬、金屬化合物、或非金屬塗層的一種工藝。
特點： (1)鍍層均勻、緻密、附着性好、硬度高、磨擦係數低；
(2)符合歐盟ROHS標準、環保；
(3)突出優點：表面不沾污垢，手指印等輕輕一擦就掉；
(4)性能穩定：48小時鹽霧試驗、耐磨試驗、人工汗測試，全部合格；
(5)貨期短。
